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江苏芯梦半导体设备有限公司 镍钯金化学镀设备|晶圆盒清洗机|单片清洗机|槽式清洗机
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中国澳门定制槽式清洗机供应商家 江苏芯梦半导体设备供应

2024-01-23 06:07:52

设备规格:非常广泛的应用业绩,制造数量在4位数,可以给客户提供清洗工艺方案。处理片数:25片?50片两种工艺搬运方式:盒式类型或无盒式类型清洗方法:根据洗净槽的工艺决定机器人:根据工艺流程确定数量。配备上/下、行走和夹头驱动。LD&ULD:兼容PFA?OPEN?FOSB?FOUP卡槽。8″晶圆间距为6.35mm。12″晶圆间距为10mm。规格根据应用和布局确定。间距转换:在清洗12″晶圆的情况下,为了减少清洗槽的体积、将晶片间距转换为10mm~7mm或5mm。干燥方式:从热水干燥、IR干燥和旋转干燥器中进行选择。装置整体构造:框架?支架 钢架焊接结构,经过耐腐蚀涂层后缠绕。FFU(清洗单元)安装在上部。 江苏芯梦槽式清洗设备采用先进技术,助你轻松提升产能!中国澳门定制槽式清洗机供应商家

晶圆槽式清洗设备是一种用于半导体行业的设备,用于对晶圆进行清洗和表面处理。以下是晶圆槽式清洗设备的一些特点:多槽设计:晶圆槽式清洗设备通常采用多槽设计,每个槽都有特定的功能和处理步骤。例如,清洗槽、漂洗槽、去离子水槽等。多槽设计可以实现多个步骤的连续处理,提高清洗效率和质量。自动化操作:晶圆槽式清洗设备通常具有高度自动化的操作系统,可以进行自动加载、清洗、漂洗、干燥和卸载等操作。自动化操作可以提高生产效率、减少人工操作和减少人为误差。温度控制:清洗过程中,温度对于清洗效果和晶圆品质至关重要。晶圆槽式清洗设备通常配备了温度控制系统,可以准确控制清洗液的温度,以满足不同清洗要求。浙江集成电路槽式清洗机出厂价芯梦槽式清洗设备、简单、高效、便捷!

晶圆槽式设备在半导体制造过程中常用于腐蚀和刻蚀处理,其应用包括:

腐蚀:晶圆槽式设备可以用于在半导体制造过程中对晶圆进行腐蚀处理。这种腐蚀可以是湿法腐蚀或者干法腐蚀,用于去除晶圆表面的特定材料,改变晶圆的形貌或者厚度,或者形成所需的结构和图案。

刻蚀:晶圆槽式设备也可以用于在半导体制造过程中对晶圆进行刻蚀处理。刻蚀可以是湿法刻蚀或者干法刻蚀,用于在晶圆表面形成微细的结构、通孔或者图案,以满足芯片制造的要求。

晶圆槽式清洗工艺流程通常包括以下步骤:准备:首先,需要准备晶圆槽式清洗设备,包括清洗槽、化学溶液、超声波清洗器等设备和工具。同时,需要对晶圆进行分类和准备,确保其可以被正确地放置到清洗槽中。预清洗:将晶圆放置到清洗槽中,首先进行预清洗步骤,通常使用去离子水或者其他清洗溶液,以去除表面的大颗粒杂质和一些粗糙的污垢。主清洗:接下来,将晶圆放置到清洗槽中进行主要的清洗步骤。这一步通常使用特定的化学清洗溶液,可以根据需要选择不同的清洗溶液,例如酸性或碱性清洗剂,以去除表面的有机和无机残留物、金属离子、光刻胶残留等。清洗后处理:清洗后,晶圆可能需要进行去离子水漂洗、干燥等后处理步骤,以确保晶圆表面的洁净度和干燥度江苏芯梦,值得你的信赖!

关键应用;

前清洗;用于炉管前清洗工艺 清洗液 DHF +SPM + SC1 + SC2 + IPA dry

RCA清洗;用于RCA清洗工艺 清洗液 DHF +SPM +SC1 +SC2 +IPA dry

湿法去胶;用于干法刻蚀工艺后光刻胶去除工艺 清洗液 DHF +SPM + SC1 +IPA dry

氧化物湿法刻蚀;用于氧化物湿法刻蚀或去除工艺 清洗液 HF or BOE +SC1+IPA dry

氮化硅膜层去除;用于氧化硅膜层湿法去除工艺,并控制SIN/oxide选择比 清洗液 DHF+H3PO4+SC1+IPAdry

前段poly/oxide去除;用于控片回收处理,剥离去除不同的金属或非金属膜层 清洗液 HF/HNO3 +HF + SC1 + SC2 +IPA dry

后段金属膜层去除; 用于控片回收处理,剥离去除不同的金属或非金属膜层 清洗液SPM +HF +SC1 +IPA dry 选择芯梦的槽式清洗设备,让你的生产过程更加安全、稳定!湖北本地槽式清洗设备报价

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设备包括设备主体、电气控制部分、化学工艺槽等;并提供与厂务供电、供气、供水、排废水、排气系统配套的接口等

主体设备主体使用德国进口瓷白10mmPP板材,双层防漏,

骨架SUS304+PP德国进口板组合而成,防止外壳锈蚀

安全门设备安装左右对开透明PVC门,分隔与保护人员安全;边缘处设备密封条台面高度约800mm,

台面板均匀分布Φ12mm圆孔,结构设计充分考虑长期工作在酸腐蚀环境

工艺槽模组化设计,腐蚀槽、纯水冲洗槽放置在一个统一的承漏底盘中。底盘采用满焊接工艺加工而成,机台的渗漏危险

管路系统位于设备下部,所有工艺槽、管路、阀门部分均有清晰的标签注明;药液管路采用PFA管,纯水管路采用PP管,化学腐蚀槽废液、冲洗废水通过管道排放电气保护

电器控制、气路控制和工艺槽控制部份在设备后部单独电器控制柜,电气元件有充分的防护以免酸雾腐蚀以保障设备性能运行;所有可能与酸雾接触的电气及线路均PFA防腐隔绝处理,电气柜CDA/N2充气保护其中的电器控制元件工

作照明上方防酸型照明灯220V40W可更换 中国澳门定制槽式清洗机供应商家

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江苏芯梦/JSXM,成立于2019年8月,位于苏州吴中经济开发区,致力于提供晶圆制造、集成电路制造、先进封装及大硅片制造领域湿法制造环节工艺设备的综合解决方案。 江苏芯梦成立三年来高速发展,现有员工人数近300人,其中40%为技术研发人员,近3年营收复合增长率超100%。江苏芯梦始终坚持创新,不断攀登半导体湿法装备技术高峰,自主研发的国内首台全自动ENEPIG化学镀设备目前市场占有率国内;自主研发的全自动FOUP清洗设备成功打破国外垄断,并已进入国内半导体企业应用。 江苏芯梦高度重视技术创新和知识产权保护,并获得了国家高新技术企业、江苏省双创人才企业、江苏省潜在独角兽企业、江苏省民营科技企业、江苏省三星级上云企业、姑苏创业人才企业、苏州市企业工程技术研究中心、苏州市瞪羚计划入库企业、东吴科技人才企业等多项荣誉资质。

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