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江苏芯梦半导体设备有限公司 镍钯金化学镀设备|晶圆盒清洗机|单片清洗机|槽式清洗机
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上海全自动槽式 江苏芯梦半导体设备供应

2024-02-08 06:09:29

芯梦槽式湿法设备用于批式晶圆湿法清洗、刻蚀、光刻胶去除等工艺,提供多个槽体进行化学药液或纯水,结合热浸、喷淋、溢流、快速冲洗等清洗方式,配合先进的IPA干燥方式,可同时对25或50片晶圆进行工艺处理,可广泛应用于集成电路制造领域。

主要优势

小尺寸,高产能

先进的IPA干燥方式

工序可灵活编辑

无盒式(No-Cassette)50片晶圆批次处理

节能减排,降低成本

特征规格

配备先进的IPA干燥槽

配备稳定的晶圆传输系统

模块化设计,可客制化组合选配

可选配一体式清洗模块(多种化学药水与纯水在同一槽中进行工艺)

可选配兆声波清洗 芯梦槽式清洗设备为您带来体验!上海全自动槽式

晶圆制造工艺复杂,拥有很多工序,不同工序中使用了不同的化学材料,通常会在晶圆表面残留化学剂、颗粒、金属等杂质,如果不及时清洗干净,会随着生产制造逐渐累积,影响质量。在晶圆制造工艺中,一般存在五个清洗步骤,分别是颗粒去除清洗、刻蚀后清洗、预扩散清洗、金属离子去除清洗和薄膜去除清洗。因此,作为清洗工艺的基础,清洗设备成为了制程发展的关键。

按照清洗方式的不同,清洗设备可分为两种,分别是单片式和槽式。

单片式清洗机是由几个清洗腔体组成,再通过机械手将每一片晶圆送至各个腔体中进行单独的喷淋式清洗,清洗效果较好,避免了交叉污染和前批次污染后批次,但缺点是清洗效率较低,成本偏高。 河南槽式清洗机报价芯梦半导体为您量身打造专业清洗解决方案!

槽式清洗设备是一种用于批量处理晶圆的清洗设备。它在半导体制造过程中起着重要的作用,可以去除芯片生产中产生的各种沾污杂质。下面是槽式清洗设备的工艺流程:

准备工作:检查清洗槽的状态,确保其干净并且没有残留物。准备清洗液,根据需要选择合适的清洗剂和溶剂。

装载晶圆:将待清洗的晶圆放入清洗槽中,确保晶圆的表面朝上。

清洗:启动清洗设备,将清洗液注入清洗槽中。控制清洗液的温度、浓度和流速,根据需要进行调整。清洗液通过槽式清洗设备中的喷嘴或超声波装置,对晶圆进行清洗。清洗液中的化学物质和机械作用力可以去除晶圆表面的沾污杂质。

冲洗:清洗完成后,停止清洗设备,将清洗液排出。使用高纯水对晶圆进行冲洗,以去除残留的清洗液和杂质。冲洗时间和流速需要根据具体情况进行调整。

干燥:将晶圆从清洗槽中取出,放置在干燥设备中进行干燥。干燥设备可以使用热风或氮气等方法,将晶圆表面的水分蒸发掉。

在8寸工艺和12寸里的90/65nm等工艺中,线宽较宽,对残留的杂质容忍度相对较高,对清洗的要求相对没那么高。同时,在先进工艺中,槽式清洗设备也有单片式清洗无法替代的清洗方式,如高温磷酸清洗,目前只能用槽式清洗设备。因此,为节省成本和提高生产效率,目前的主流晶圆清洗设备还是以槽式清洗设备为主。随着集成电路先进制程工艺的进步,清洗设备的数量和使用频率逐渐上升,清洗步骤的效率严重影响了晶圆生产良率,在整个生产过程中占比约33%,清洗设备成为了晶圆处理设备中重要的一环。我司槽式清洗设备结构稳固,性能可靠,是你的生产好帮手!

晶圆槽式清洗设备是一种专门用于清洗半导体晶圆的设备。它被广泛应用于集成电路、光电子器件、太阳能电池等领域,以确保晶圆表面的洁净度和杂质的去除,从而保证器件的性能和可靠性。晶圆槽式清洗设备通常由以下几个主要组成部分组成:清洗槽:清洗槽是晶圆放置和清洗的主要空间。它通常由耐腐蚀性材料制成,如聚丙烯、聚氯乙烯等,以承受不同清洗剂的作用。清洗液供给系统:清洗液供给系统负责提供清洗液和处理液。它通常包括液体储罐、泵、管道和阀门等组件,以确保清洗液的稳定供应和流动。搅拌/超声波系统:搅拌或超声波系统用于增强清洗效果。搅拌系统通过搅拌叶片或搅拌杆在清洗液中产生流动,帮助去除晶圆表面的污染物。超声波系统则使用超声波振动产生的微小气泡和液流动力,以增加清洗液与晶圆表面之间的物理作用力。控制系统:控制系统用于监控和调节清洗设备的工作状态和参数。它包括温度控制、时间控制、搅拌/超声波功率控制等功能,以确保清洗过程的准确性和一致性。过滤系统:过滤系统用于去除清洗液中的固体颗粒和杂质,以防止它们再次沉积在晶圆表面上。干燥系统:干燥系统负责将清洗后的晶圆表面的水分蒸发干燥。常用的干燥方式包括热风干燥、氮气吹干等。江苏芯梦半导体的槽式清洗设备采用先进技术,帮助你轻松提升产能!山东国产槽式清洗机规格尺寸

芯梦的槽式清洗设备节能环保,符合现代的生产理念,助你降低成本!上海全自动槽式

槽式湿法刻蚀清洗设备

设备类型:Cassetteless-type

晶圆尺寸:300mm

设备配置:8~12个槽体2~6个Robot(可定制)可搭载先进超声波兆声波槽体过温保护,各Module配置漏液传感器多级Wafer保护措施支持化学液CCSS/LCSS自动换酸,自动补液、配液( 可兼容多种浓度配比)先进Marangoni干燥加热控制,浓度控制,流量控制,压力控制化学液/水,直排&回收

可靠性能;Uptime>95% Breakage<1/100000 MTBF>650 hours MTTR<3 hours

软件控制:PC+PLC+GUI 控制,支持Schedule、EAP、FDC等功能 上海全自动槽式

关于我们

江苏芯梦/JSXM,成立于2019年8月,位于苏州吴中经济开发区,致力于提供晶圆制造、集成电路制造、先进封装及大硅片制造领域湿法制造环节工艺设备的综合解决方案。 江苏芯梦成立三年来高速发展,现有员工人数近300人,其中40%为技术研发人员,近3年营收复合增长率超100%。江苏芯梦始终坚持创新,不断攀登半导体湿法装备技术高峰,自主研发的国内首台全自动ENEPIG化学镀设备目前市场占有率国内;自主研发的全自动FOUP清洗设备成功打破国外垄断,并已进入国内半导体企业应用。 江苏芯梦高度重视技术创新和知识产权保护,并获得了国家高新技术企业、江苏省双创人才企业、江苏省潜在独角兽企业、江苏省民营科技企业、江苏省三星级上云企业、姑苏创业人才企业、苏州市企业工程技术研究中心、苏州市瞪羚计划入库企业、东吴科技人才企业等多项荣誉资质。

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