河南晶圆化学镀镍设备 江苏芯梦半导体设备供应

化学镀（Chemical Plating）在晶圆制造中有广泛的应用，主要涉及到以下几个方面：金属填充：化学镀可以用于填充金属材料在晶圆表面的微小孔洞或凹槽中，以增强电气连接或保护结构。这在集成电路的封装和封装中特别常见，例如填充金属到通过孔（Via）或金属插座等。金属引线：化学镀可用于制造金属引线（Wire Bonding）的连接。在芯片封装过程中，金丝被焊接到芯片引脚和封装基板之间，化学镀可提供一层金属保护和增强连接的可靠性。金属保护：化学镀可用于在晶圆制造过程中对芯片表面进行金属保护。通过在晶圆表面形成一层金属保护膜，可以防止氧化、腐蚀和污染等对芯片性能的不利影响。金属填充电解沉积：化学镀还可以应用于金属填充电解沉积（Electrochemical Deposition, ECD），用于填充金属材料到微小结构中，例如填充铜到高密度互连结构中的微小线路。购买晶化学镀设备推荐您选择江苏芯梦半导体设备有限公司！河南晶圆化学镀镍设备

镍钯金工艺是一种常用的电镀工艺，用于在金属表面形成镍、钯和金的复合镀层。这种镀层具有优良的耐腐蚀性、耐磨损性和装饰效果，以下是一般的镍钯金工艺步骤：预处理：对待镀工件进行预处理，包括清洗、酸洗和活化处理等步骤，以去除表面的污垢、氧化物和杂质，提高金属表面的活性和附着力。镍底层：在预处理后，首先进行镍的电镀，形成一层镍底层。镍底层可以提供良好的附着力和耐腐蚀性，为后续的钯和金层提供良好的基础。镍的电镀通常使用硫酸镍或镍氯酸盐作为电解液，并控制适当的电流密度和电镀时间。钯中间层：在镍底层上完成后，进行钯的电镀，形成一层钯中间层。钯层可以提供更好的耐磨损性和光泽度，同时也为金层的镀液提供更好的条件。钯的电镀通常使用硝酸钯或钯氯酸盐作为电解液，并根据要求控制适当的电流密度和电镀时间。金顶层：在钯中间层上完成后，进行金的电镀，形成一层金顶层。金层提供了优良的装饰效果、耐腐蚀性和抗氧化性能。金的电镀通常使用金作为电解液，并根据要求控制适当的电流密度和电镀时间。后处理：在完成金层电镀后，可以进行后处理步骤，如清洗、烘干、封闭等，以提高镀层的质量和性能。浙江功率器件化学镀金设备江苏芯梦期待与您共同解决晶化学镀问题！

到目前为止，制造商使用更普遍接受的表面处理，如OSP或有机焊接防腐剂、HASL或热风焊料整平、沉锡、沉金、ENIG和ENEPIG。这些表面处理中的每一种都有其优点和缺点，因此有必要选择适合应用的一种。选择表面光洁度需要考虑成本、应用环境、细间距元件、含铅或无铅焊料的使用、操作频率、保质期、抗跌落和抗冲击性、体积和吞吐量以及热阻等因素。随着PCB趋向于微通孔和更精细的线路，以及HASL和OSP的缺点，例如平整度和助焊剂消除问题，变得更加突出，对ENIG等表面处理的需求不断增长。此外，ENEPIG是对黑色焊盘的改进，而黑色焊盘是ENIG的主要弱点。

化学镀设备参数：

晶圆厚度:>50微米；

泰科环:2~3毫米；

晶圆沉积:晶圆F面:70~80%晶圆B面:100%；

沉积金属:镍/把/金厚度:3/03/0.03~0.05um；

整机尺寸：约9300mm(L)×2350mm(W)×2700mm(H)；

操作台面高度：950±50mm；

兼容12inch与8inchwafer；

全自动运行，foupin-foupout；

dryin-dryout；

不锈钢SUS316骨架，包覆NPP，结实且耐腐蚀*工控机+PLC控制，系统稳定；

Windows操作系统，简单方便；

具备自动添加功能；

应用领域：

微电子产品封装，TSV，RD 芯梦化学镀设备具有灵活的生产模式，满足你的个性化需求！

自21年4月交付，截至目前已累计交付多台，服务得到了客户充分的认可，2022年Q1订单表现旺盛，订单排程已经覆盖到22年Q4，据我们不完全统计预估，芯梦半导体化学镀（ENEPIG）设备中国市场已经排名前列。化学镀设备（ENEPIG）应用于晶圆级封装（CSP/COPPERPILLAR），IGBT/MOSFET晶圆制造等领域。芯梦半导体推出的产品具有：相较于传统的金属沉积方式，化学镀不需要掩模版，不需要复杂的工艺流程，方式更加简单灵活。适用于不同的PAD材质，包括：Cu/Al/AlSi/AlSiCu/Pt/Au/Ag/GaN/Ge/GaAs等相较于传统的沉积方式，化学镀设备的产出非常之高设备能够实现多手臂的互动，精密控制制程过程中的流量、温度、循环、PH等参数。XM中国的半导体湿法工艺设备提供商芯梦半导体持续致力于赋能客户价值，为集成电路制造、先进晶圆级封装制造及大硅片制造领域的湿法制造环节设备提供综合解决方案。芯梦半导体专注品质，从不将就！浙江功率器件化学镀金设备

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在进行晶圆化学镀过程时，有一些重要的注意事项需要考虑，以确保镀涂的质量和一致性，以及操作的安全性。以下是一些晶圆化学镀的注意事项：电流控制：电流是在电解过程中控制镀涂厚度和均匀性的关键参数。确保电流的稳定性和准确性，避免过高或过低的电流密度，以免影响镀层质量。定期校准和检查电流控制设备以确保准确性。镀层检验：在镀涂完成后，进行镀层的检验和测试是必要的。使用合适的检测方法，如厚度测量、附着力测试和耐腐蚀性评估等，来验证镀层的质量和性能是否符合规格要求。废液处理：废液处理是镀涂过程中的重要环节。废液中含有有害物质和金属离子，需要进行适当的处理和处置，以符合环境法规要求。遵循正确的废液处理程序，并与当地环境管理机构合作，确保废液的安全处置。河南晶圆化学镀镍设备